NMC 612M 12英寸氮化钛金属硬掩膜刻蚀机
NMC 612M 12 Inch TiN Metal Hard Mask Etcher
- 设备特点
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- 先进的线宽、形貌、均匀性控制能力
- 多区温控静电吸附卡盘提高晶圆温度控制能力
- 高产能，工艺稳定，低缺陷
- 脉冲等离子体射频技术可以减少等离子体诱导损伤
- 产品应用
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- 晶圆尺寸12英寸
- 适用材料金属
- 适用工艺TiN HM刻蚀、高K值介质刻蚀、W/Ti/Ta等金属及其化合物刻蚀
- 适用领域集成电路
