NMC 612D 12英寸硅刻蚀机
NMC 612D 12 Inch Silicon Etcher
- 设备特点
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- 脉冲等离子体控制技术减少等离子体诱导损伤
- 精确的刻蚀形貌控制
- 先进的表面处理和喷涂技术
- 稳定的传输系统和优化的工艺流程
- 产品应用
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- 晶圆尺寸12英寸
- 适用材料硅
- 适用工艺浅沟槽隔离刻蚀、栅极刻蚀、侧墙刻蚀、双重图形曝光
- 适用领域集成电路
